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///Station nettoyage chimique (Banc Humide)

Station nettoyage chimique (Banc Humide)

Catégorie :
  • Banc humide laboratoire
  • Wet bench semi-conducteur
  • Station nettoyage chimique
  • Dimensions 48″, 60″, 72″, 96″ (largeur) x 48″ (profondeur)
  • Construction pour utilisation avec des solvants ou des acides (polypropylène/FM4910 ou acier inoxydable)
  • Configuration de la station selon les besoins de votre procédé
  • Prise de liquides et de gaz avec valves
  • Système d’évacuation pour vapeurs nocives
  • Système de commande avec microprocesseur
  • Bassins disponibles en polypropylène ou en PVDF
  • Bassin décapant
  • Bassin à température constante
  • Bassin à température contrôlée
  • Bassin pour nettoyage par ultrasons
  • Contrôle de procédé par automate programmable
  • Système de distribution de produits chimiques
  • Contrôleur de pH
  • « Dump rinsers »
  • Bassins avec cascades
  • Robinets en col de cygne
  • Plate-forme perforée
  • Nettoyeur à bouteilles
  • Bassin à gravure
  • Surface de travail adaptée
  • Construction en acier inoxydable, PVDF, Teflon, etc..