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Station nettoyage chimique (Banc Humide)
- Banc humide laboratoire
- Wet bench semi-conducteur
- Station nettoyage chimique
- Dimensions 48″, 60″, 72″, 96″ (largeur) x 48″ (profondeur)
- Construction pour utilisation avec des solvants ou des acides (polypropylène/FM4910 ou acier inoxydable)
- Configuration de la station selon les besoins de votre procédé
- Prise de liquides et de gaz avec valves
- Système d’évacuation pour vapeurs nocives
- Système de commande avec microprocesseur
- Bassins disponibles en polypropylène ou en PVDF
- Bassin décapant
- Bassin à température constante
- Bassin à température contrôlée
- Bassin pour nettoyage par ultrasons
- Contrôle de procédé par automate programmable
- Système de distribution de produits chimiques
- « Dump rinsers »
- Bassins avec cascades
- Robinets en col de cygne
- Plate-forme perforée
- Nettoyeur à bouteilles
- Bassin à gravure
- Surface de travail adaptée
- Construction en acier inoxydable, PVDF, Teflon, etc..
